高分散型HL-150是一种通过优化表面处理工艺,亲水型气相二氧化硅,调控硅羟基密度与空间分布,削弱氢键作用,使聚集体在混炼时更易被剪切力解聚,均匀嵌入基体,减少团聚点。在基体中分散更为均匀,单位质量粉体形成的三维网络结构更为致密高效,相同的添加量下,实现了更好的增稠效果,在保持高填充性时,维持透明性,满足光学场景需求。